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MATCH法案点名五大龙头中企，中国芯如何破美国毒招？_蜘蛛资讯网

的分析文章警示：任何粗暴的手段都会加速中国的自主化进程。王旭光指出，国内依托现有DUV设备挖掘工艺潜力，自主优化迭代实现7纳米芯片制造，并持续提升芯片良率，这也是现阶段华为7纳米芯片机型可正常流通的核心原因。同时，国内GPU算力产业近年保持高速增长，虽然国产7纳米芯片在功耗与性能上不及国际5纳米、3纳米先进制程产品，但可通过芯片集群组网的方式，整合多芯片算力完成高强度计算任务。此外，目前我国AI大

t Oriol Vilanova (L) stands in front on his artwork 'Los Restos' on display at the Spanish Pavilion during a preview of the 61st International Art Exhibition (Biennale Arte 61) in Venice, Italy, 05 Ma

封锁到底会带来怎样的影响，DUV光刻机精度约193纳米，通过多重曝光可实现7纳米制程，且成本远低于EUV，是当前中国芯片制造的核心支撑，也是28纳米及以上成熟制程的关键设备。成熟芯片，指的主要是28纳米及以上的芯片，被广泛应用于汽车、智能手机及各类电子产品之中。在7纳米及以下先进制程受限的情况下，中国国内28纳米、14纳米、90纳米等成熟制程产线，依旧可以依靠存量设备持续生产。以中芯国际为例，在E

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发布时间：02:23:19